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有源和无源电子元件
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2015
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文章
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图1
研究文章
完全耗尽SOI mosfet中使用纳米级栅槽工艺的异常DIBL效应
图1
给出了GRC器件的COMSOL 3D视图,显示通道厚度为2.2 nm。规模
:
比率是100:1。
年度文章奖:由主编评选的2020年杰出研究贡献。
阅读获奖文章
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