有源和无源电子元件/2015/文章/图1

研究文章

完全耗尽SOI mosfet中使用纳米级栅槽工艺的异常DIBL效应

图1

给出了GRC器件的COMSOL 3D视图,显示通道厚度为2.2 nm。规模 : 比率是100:1。

年度文章奖:由主编评选的2020年杰出研究贡献。阅读获奖文章