有源和无源电子元件/2014/文章/图1

研究文章

Y超薄膜FD SOI mosfet低温特性的函数分析

图1

1 对通道厚度分别为46 nm和4.6 nm的UTB (a)和GRC (b)器件的三维TCAD (Csuprem)过程模拟的交叉视图。编号层的功能和工艺参数见表.
697369. fig.001a
(一)
697369. fig.001b
(b)