研究文章

门堆栈在电气工程和热处理和Ti / Pt /高频振荡器的界面特性2/在pMOS电容器

图2

x 2 能量色散x射线能谱(EDX)分析得到不同位置的Ti /输入/ ina MOS结构。EDX分析表明,一个界面(~ 1.2)和Hf-rich氧化后形成钛沉积到高频振荡器/输入/ ina结构。
729328. fig.002