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| 样品/衬底 |
沉积的方法 |
时间(秒) |
(nm / s) |
(nm) |
(在/厘米2)从步枪协会 |
(在/厘米2从苏格兰皇家银行 |
(在/厘米2从苏格兰皇家银行 |
(克/厘米3从苏格兰皇家银行 |
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| Na1 / C |
直流磁控溅射 |
41 |
1.43 |
58-60 |
3.25 |
3.03 |
1.58 |
3.17 - -3.39 |
| 钠/ C |
直流磁控溅射 |
48 |
1.17 |
54-58 |
3.36 |
3.20 |
1.52 |
3.67 - -3.94 |
| Na3 / C |
直流磁控溅射 |
57 |
0.98 |
52-58 |
3.41 |
3.09 - -3.22 |
1.43 |
3.67 - -4.09 |
| Na4 / C |
直流磁控溅射 |
72年 |
0.76 |
54-56 |
3.16 |
2.79 |
1.40 |
3.22 - -3.33 |
| Na5 / C |
直流磁控溅射 |
95年 |
0.54 |
百分比较 |
2.53 |
2.69 - -2.74 |
1.31 |
3.15 - -3.27 |
| Na6 / C |
直流磁控溅射 |
143年 |
0.23 |
尺码 |
2.45 |
2.48 |
1.16 |
3.35 - -4.60 |
| M50 / C |
射频溅射 |
2750年 |
0.02 |
50 - 60 |
3.54 |
2.93 |
1.57 |
3.27 - -3.92 |
| M50 / Si / SiO2 |
射频溅射 |
2750年 |
0.02 |
50 - 60 |
7.95 |
- - - - - - |
1.6 |
3.27 - -3.92 |
| WO_1 / Si |
射频溅射 |
15000年 |
0.02 |
300年 |
17 |
- - - - - - |
9.13 |
3.7 |
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