研究文章

机械和结构Fluorine-Ion-Implanted硼低值氧化物的性质

图5

36 3 请注意 说明的基本物理过程(从左到右)参与集群的形成粒子从一个植入离子剂量。表面溅射下辐照也被认为是(]。图由Stepanov []。。在这项研究中,所有的描述是as-implanted标本;没有完成退火。
792973. fig.005