研究文章

高空间分辨率飞行时间二次离子质谱质量:一种新型正交ToF FIB-SIMS仪器原位AFM

图7

−5 μ 校准情节的硼掺杂硅晶片显示线性适合测量的点(三个标准和一个空白),和95%的置信区间。6.0×10的氧气分压mbar被用来增强信号;主要梁是30 keV > 14.7 nA扫描面积10×1014.7米(当前无法衡量nA)。发现在这些条件下的极限这种材料是5.5 ppm。
180437. fig.007