纳米技术杂志

研究文章

PMMA辅助等离子结构

石墨模式使用保护面罩并接触氧等离子PMMA通常显示对氧等离子体微弱抗药性当前工作建议新物理处理参数,使PMMA能用面罩创建石墨上的丝带模式e-bem平面图用于创建MMA掩码