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研究文章
建模、仿真和分析小说Nano-MOSFET阈值电压的定义
表1
的比较
V
TH
提取方法10 nm测试设备。
方法
V
DS
V
TLIN
混合外推法提取方法
0 V
0.67 V
线性外推法(LEM)
0.1 V
0.68 V
二阶导数方法(SDM)
0.1 V
0.675 V
Ghibaudo方法(通用)
0.1 V
0.6 V
匹配点方法(MPM)
0.1 V
0.65 V
文章奖:2020年杰出的研究贡献,选择由我们的首席编辑。
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