摩擦学的发展

摩擦学的头磁盘接口


出版日期
2013年4月19日
状态
发表
提交截止日期
2013年1月3日

导致编辑器

1圣何塞研究中心,日立环球存储科技,圣何塞CA 95135,美国

2Yamate-cho关西大学机械工程系,3-3-35,Suita-shi, 564 - 8680年大阪,日本

3数据存储研究院5工程开车1,新加坡117608

4国立台湾大学机械工程系,713年工程建筑,台北,台湾


摩擦学的头磁盘接口

描述

作为商业硬盘驱动器的磁录密度具有每平方英寸的里程碑,迅速接近t比特信息能力需要进一步降低head-medium间距(HMS)正变得越来越重要,因为它是一个必要的推动者,良好的可写性以及强烈的重复复诵信号的完整性。据估计,HMS很快就需要穿过6 - 7海里马克为了达到这个密度点。值得重视的是意识到存储数字信号的误码率,读回将提高约2 x每0.3纳米的HMS下降。除了无情的对小说的需求,超薄保护电影的大衣和润滑剂,和subnanometer气隙之间的磁盘和头部,替代记录技术目前正在酝酿涉及加热盘超过500°C (heat-assisted磁记录或HAMR)和/或物理上隔离磁位小岛sub-30海里的物理维度(bit-patterned记录或BPR)。

我们邀请调查人员提供原始研究的文章以及评论文章,将刺激持续努力理解超低HMS的物理限制,小说发展的润滑剂和大衣电影,精细控制的subnanometer头磁盘。我们特别感兴趣的文章基本见解的摩擦学和化学头磁盘接口HAMR或BPR的条件下。

潜在的主题包括,但不限于:

  • 最近的事态发展在薄润滑剂和大衣下电影和描述他们的物理和化学性质热瞬变
  • 润滑剂和大衣建模,在连续近似,以及分子动力学
  • Nanoactuation技术磁距控制,滑块接地检测和磁盘间隙控制
  • 空气轴承建模和热机的正面影响和媒体HAMR条件下和实验验证
  • BPR接口:空气轴承建模、实验和整平技术
  • 磁盘驱动器的作用环境(湿度、温度、颗粒和有机污染物)在头磁盘接口的可靠性
  • 头和磁盘腐蚀机制和控制

之前提交的作者应该仔细阅读《华尔街日报》的作者指南,位于//www.newsama.com/journals/at/guidelines/。未来的作者应该提交一份电子版的完整手稿通过跟踪系统在《华尔街日报》手稿http://mts.hindawi.com/根据以下时间表:

摩擦学的发展
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