研究文章

改善均匀性和长宽比的反应离子刻蚀硅场致发射的技巧

图5

SEM图像后的提示Si与三个不同的各向异性腐蚀因素:(a),(b),(c)。
948708. fig.005a
(一)
948708. fig.005b
(b)
948708. fig.005c
(c)