材料科学与工程的发展
研究文章

改善均匀性和长宽比的反应离子刻蚀硅场致发射的技巧

图3

2 SEM图像结构化阴极的制造过程。(一)发达光刻胶。(b)的SiO磁盘。(c)蚀刻硅。(d)最终排放国。
948708. fig.003a
(一)光刻
948708. fig.003b
(b)SiO2-RIE-etching
948708. fig.003c
(c)Si-RIE-etching
948708. fig.003d
(d)Si-tip-emitter