Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N
+
Ion Implantation ">
表1 |特点及光催化性能的T i O 2薄膜由溅射沉积和Post-N +离子注入 - raybet雷竞app,雷竞技官网下载,雷电竞下载苹果
期刊
雷电竞下载苹果
raybet推荐吗
关于我们
博客
材料科学与工程的发展
日报》概述
对于作者
对于审查员
的编辑器
表的内容
特殊的问题
材料科学与工程的发展
/
2012年
/
文章
/
标签1
/
研究文章
特点及光催化性能
T
我
O
2
薄膜由溅射沉积和Post-N
+
离子注入
表1
O、Ti、N原子的浓度,R -, M-TiO
2
薄膜在几个
离子剂量。
离子剂量
原子的。
一位tio
2
(%)
R-TiO
2
(%)
M-TiO
2
(%)
O
“透明国际”
N
O
“透明国际”
N
O
“透明国际”
N
2.5×10
15
离子/厘米
2
75.8
22.1
2.1
68.5
30.5
1.0
73.6
22.7
3.8
5.0×10
15
离子/厘米
2
71.3
23.2
5.5
67.0
29.1
3.9
68.6
23.2
8.3
7.5×10
15
离子/厘米
2
67.6
21.9
10.5
64.1
30.6
5.3
63.2
22.0
14.9