T i O 2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation "> 表1 |特点及光催化性能的T i O 2薄膜由溅射沉积和Post-N +离子注入 - raybet雷竞app,雷竞技官网下载,雷电竞下载苹果
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特点及光催化性能 T O 2 薄膜由溅射沉积和Post-N+离子注入

表1

O、Ti、N原子的浓度,R -, M-TiO2薄膜在几个 离子剂量。

离子剂量 原子的。
一位tio2(%) R-TiO2(%) M-TiO2(%)
O “透明国际” N O “透明国际” N O “透明国际” N

2.5×1015离子/厘米2 75.8 22.1 2.1 68.5 30.5 1.0 73.6 22.7 3.8
5.0×1015离子/厘米2 71.3 23.2 5.5 67.0 29.1 3.9 68.6 23.2 8.3
7.5×1015离子/厘米2 67.6 21.9 10.5 64.1 30.6 5.3 63.2 22.0 14.9