T i O 2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation "> 图5 |特点及光催化性能的T i O 2薄膜由溅射沉积和Post-N +离子注入 - raybet雷竞app,雷竞技官网下载,雷电竞下载苹果
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特点及光催化性能 T O 2 薄膜由溅射沉积和Post-N+离子注入

图5

2 2 15 15 15 2 亚甲蓝溶液的透光率变化紫外线杀菌灯(S.L.)和人工灯(A.L.)作为unirradiated可见光- R -, M-TiO薄膜和辐照,R -, M-TiO薄膜的离子剂量的2.5×10,5.0×10和7.5×10离子/厘米。
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