T i O 2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation "> 图2 |特点及光催化性能的T i O 2薄膜由溅射沉积和Post-N +离子注入 - raybet雷竞app,雷竞技官网下载,雷电竞下载苹果

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特点及光催化性能 T 我 O 2 薄膜由溅射沉积和Post-N+离子注入

图2

2 2 15 2 AFM的顶视图图像unirradiated——, R -, M-TiO薄膜(a)和辐照,R -, M-TiO薄膜的离子剂量的5.0×10离子/厘米(b)。
923769. fig.002a
(一)
923769. fig.002b
(b)