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隧道为自旋注入硅联系人:Si-Co接口与没有采用隧道的障碍是研究高分辨率的卢瑟福背散射
图3
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HRBS光谱Si和Co的边缘:(一)5.93毫升的Co沉积在−60°C和(b) 23.42毫升的Co沉积在室温(22°C),一起模拟光谱的残余(实线通过数据)。insets,显示界面的Si和Co浓度从臀部获得模拟(深度范围:层的Si,哦/厘米厚)。右边的浓度配置文件对应的自由表面Co / Si。层0是故意放入Si散装。
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