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材料科学与工程的发展
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材料科学与工程的发展
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2011年
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图9
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形成和设备的应用Ge纳米线异质结构通过快速热退火
图9
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电气特性的通用纳米线后门场效应晶体管(没有O限制在退火)在300 K。(一)示意图说明Ge纳米线的后门场效应晶体管。(b)曲线的后门Ge纳米线晶体管等之前和之后,都显示p型MOSFET的行为。显著提高晶体管性能等后,倪通用电气源/漏接触形成。从[复制]。
(一)
(b)