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形成和设备的应用Ge纳米线异质结构通过快速热退火
图4
原位
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一系列的TEM图像在不同退火温度:常温;(b) 400°C;(c) 450°c;(d) 500°C。箭头表示之间的界面形成镍通用电气和通用电气的纳米线。红色圆圈表示倪通用电气从镍纳米颗粒分离Ge纳米线。(e)的TEM图像镍电极反应与Ge纳米线在400°C退火30分钟。从[复制]。
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