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形成和设备的应用Ge纳米线异质结构通过快速热退火
图3
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镍的动力学分析通用电气Ge纳米线内的外延生长。(一)倪的实时记录Ge纳米线生长长度与400和500°C的反应时间,说明潜在的线性增长。(b) - (c)倪的TEM图像通用电气Ge纳米线中增长在400°C退火。138.9 nm的箭头表示相应长度的增长7分35秒。(d) - (e)倪的TEM图像通用电气Ge纳米线中增长在500°C退火。357.5 nm的箭头表示相应长度的增长5分40秒。从[复制]。
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