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形成和设备的应用Ge纳米线异质结构通过快速热退火
图2
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倪外延的关系通用电气/通用接口。(一)Lattice-resolved TEM图像形成镍Ge纳米线。插图显示了FFT模式,确认是镍锗化物形成阶段通用电气。(b) TEM Ni的形象通用电气Ge /异质结构界面显示一个自动锋利。(c) Lattice-resolved TEM图像的未反应的Ge纳米线。插图显示了FFT的模式。(d)低放大率纯属捏造的TEM图像设备与倪垫和Ge纳米线。退火后(e)低放大率TEM图像在500°C。箭头表示Ni的接口通用电气/ Ge纳米线。(f) EDS倪通用电气,显示一个相对2:1浓度比镍原子和通用电气。从[复制]。
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