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形成和设备的应用Ge纳米线异质结构通过快速热退火

图11

x x x (一)TEM图像的通用电气在点接触型纳米线有两个镍纳米线在TEM网格在室温下。(b) TEM图像显示镍的扩散到Ge纳米线在450°C退火。红色箭头表示增长倪Ge纳米线。(c)的TEM图像点的另一个Ge纳米线接触镍纳米线的TEM网格在室温下。(d) TEM图像显示镍的扩散到Ge纳米线在450°C退火。倪的红色圆圈强调了消费在倪的形成Ge纳米线退火。同时,倪的隔离Ge纳米粒子中没有观察到Ni-Ge纳米线点接触型系统在退火。
316513. fig.0011a
(一)
316513. fig.0011b
(b)
316513. fig.0011c
(c)
316513. fig.0011d
(d)