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形成和设备的应用Ge纳米线异质结构通过快速热退火

图1

2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 13 倪的形成通用电气/电气/镍通用电气异质结构。图解插图显示之前(a)和(b)扩散过程后,倪Ge纳米线形成镍通用电气/电气/镍通用电气异质结构。(c)的扫描电镜图像Ge纳米线设备定义了电子提单的镍电极。倪(d)的扫描电镜图像通用电气/电气/镍通用电气异质结构在60年代在500°C等通用区域的长度是容易控制的亚微米范围。箭头表示增长Ni的技巧Ge纳米线。倪(e)的扫描电镜图像通用电气/电气/镍通用电气异质结构在400°C等40多岁。箭头表示增长Ni的技巧Ge纳米线。从[复制]。
316513. fig.001a
(一)
316513. fig.001b
(b)
316513. fig.001c
(c)
316513. fig.001d
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