Ni–SnO2-composed catalyst. The production rate was 5 400 times that of the conventional CVD system and Ni–Cu–In2O3 catalyst. The powdery CNTw was easily scraped off the substrate, then pasted with organic binder, and printed by a squeegee method on ITO glass substrate for an electron field emitter. The field emission performance was found to be better than that of the directly grown CNTw film in conventional CVD with Ni–Cu catalyst."> 粉状碳纳米捻线的制备及其在印刷场发射中的应用 - raybet雷竞app,雷竞技官网下载,雷电竞下载苹果
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材料科学与工程进展
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材料科学与工程进展/2007/文章

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研究信|开放获取

体积 2007 |文章的ID 059167 | https://doi.org/10.1155/2007/59167

细川祐二、志贵肇、筱原祐一、横田正志、高川博文、Ina隆志、冈田文雄、藤村洋平、山风达夫、伊藤忠重男、三浦浩二、吉川一雄， ＂粉状碳纳米捻线的制备及其在印刷场发射中的应用"，材料科学与工程进展， 卷。2007， 文章的ID059167， 5 页面， 2007． https://doi.org/10.1155/2007/59167

粉状碳纳米捻线的制备及其在印刷场发射中的应用

Yuji细川，1 Hajime志贵，1 Yuichiro筱原，1 Masashi横田，1 Hirofumi Takikawa，1 隆在，2 Fumio冈田克也，2 洋平》，3. Tatsuo Yamaura，3. 伊藤茂雄，3. Koji三浦，4 和 Kazuo Yoshikawa4

12 .丰桥工业大学电气电子工程系，日本，爱知县，丰桥，天扑，Hibarigaoka 1-1, 441-8580

2日本爱知县东海新浦507-2东宝燃气公司基础研究室，爱知县东海476-8501

3.日本千叶市彩生郡彩生村十冢1080号双叶株式会社研究开发中心299-4395

4东海碳素株式会社富士研究实验室，日本静冈县三东县山桥394-1,410-1431

学术编辑器:彼得北京
收到了 09年10月2007年
接受 2007年12月05
发表 2008年1月17日

摘要

在本研究中，开发了一种基于催化化学气相沉积(CVD)基板的具有序列控制的碳纳米纤维型合成自动化生产系统。在此基础上，以纳米碳素为原料，合成了一种螺旋状碳纳米纤维——碳纳米扭(CNTw) Ni-SnO 2 由催化剂。该系统的产量是常规CVD系统的5 400倍 Ni-Cu-In 2 O 3. 催化剂。粉末CNTw很容易从基材上刮下，然后用有机粘合剂粘贴，用刮刀法印刷在ITO玻璃基材上作为电子场发射器。结果表明，在Ni-Cu催化的常规化学气相沉积中，直接生长的CNTw薄膜的场发射性能优于直接生长的CNTw薄膜。

参考文献

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