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Jan法郎, ”造型Czochralski流”,抽象和应用分析, 卷。3, 文章的ID865836年, 40 页面, 1998年。 https://doi.org/10.1155/S1085337598000426
造型Czochralski流
收到了
1996年8月3日
文摘
Czochralski方法的工业生产单晶硅由拉硅熔体的单晶。熔体的流动生产过程中被称为Czochralski流。流的数学描述由一个耦合系统含有n - s方程的六P.D.E.圆柱坐标(流函数),热convection-conduction方程,对俩散方程氧杂质和一个方程描述磁场效应。摘要系统的分析形式用于数值模拟。疲软的公式推导和弱解的存在证明固定和演化问题。
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