研究文章

实验的释放CMOS-Micromachined金属层

图13

μ μ μ 100年不同剖面测量m CMOS-MEMS膜由一、二和三个金属层。钝化是在9m高度和底物在0m。细胞膜与pad-etchant 60分钟后被释放。
937301. fig.0013