研究文章

过程和属性直接纳米金属和半导体纳米线在Si芯片的集成

图1

24 (一)——(d)显示纳米结构增加了传统VLS方法,(a)透射电子显微镜(TEM)氧化锌纳米棒的形象与非盟NPs头上(虚线圆圈内);(b)、(c)和(d)扫描电子显微镜(SEM)图像氧化锌nanoSails在不同的放大。非盟的NP的nanoSail中可以清楚地看到1 d(虚线圆圈内)。(e)和(f)显示结构增加了修改VLS方法()没有任何催化NPs (e):氧化锌nanomast结构,(f)氧化锌纳米棒,(g)氧化锡纳米线。
325732. fig.001a
(一)
325732. fig.001b
(b)
325732. fig.001c
(c)
325732. fig.001d
(d)
325732. fig.001e
(e)
325732. fig.001f
(f)
325732. fig.001g
(g)