纳米技术杂志》

纳米技术杂志》/2011年/文章/图3

研究文章

探索直接使用阳极氧化的铝作为Nanoimprint光刻制造的模具在大面积磁纳米结构

图3

2 SEM平面视角的图像(a)与模具涂上薄SiO层;插图的孔径分布是模具,(b)的横截面扫描电镜图像as-imprinted抵制支柱,插图是抵制柱直径的分布。一些较小的柱子高度由白色箭头指示,和(c)平面图SEM图像FePt的硅晶圆上点;插图的右上角是放大视图,左侧底部角落FePt点的大小分布。一些点高度表示减少了黑色的箭头在放大视图。
961630. fig.003a
(一)
961630. fig.003b
(b)
961630. fig.003c
(c)

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