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光学制造和表面微结构的研究进展修改原文如此
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| 光学制造碳化硅 |
原则 |
特征 |
例子 |
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| 机械抛光 |
机械摩擦和材料去除 |
低效率 |
最终的表面精度1 nm RMS帕奎因等报道。3] |
| 湿式抛光 |
抛光模具沉浸在泥浆,RMS变得低的磨料 |
表面精度高 |
最终的表面精度0.75 nm RMS报道了徐et al。4] |
| 超精密磨削 |
延性磨削 |
设备要求高 |
Bifano et al。5)使用CVD SiC获得5.5 nm RMS |
| 仪抛光 |
仪反应 |
低效率 |
在[6),最后表面1 nm RMS的准确性 |
电解过程
敷料(ELID) |
砂轮的电解过程的功能 |
良好的表面质量 |
在[7),最后表面精度为1.4 nm RMS |
| 化学机械抛光(CMP) |
结合机械磨和化学腐蚀 |
表面质量好,但具有腐蚀性 |
在[8),最后表面精度为0.5 nm RMS |
| 磁流变加工(MRF) |
磁流变抛光液粘度增加了材料去除的剪切力产生的磁场梯度 |
低效率
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约翰逊等人用这种方法制造CVD SiC (9] |
| 激光光化学抛光 |
激光光化学反应 |
效率高,但具有腐蚀性 |
80海里的最终表面精度RMS被Murahara报道(10] |
| 离子束铣 |
高速离子束撞击表面的样本 |
表面质量好,昂贵的设备 |
1纳米RMS的最终表面精度是由约翰逊et al。11] |
| 浮法抛光 |
样品是漂浮在高速旋转的抛光板流体动压力 |
良好的表面质量 |
在[12),最后表面3 nm RMS的准确性
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