研究文章|开放获取
Nazila Dadvand、乔治·j·Kipouros, ”化学镀钴合金纳米线在氧化铝模板的制备”,《纳米材料, 卷。2007年, 文章的ID046919年, 6 页面, 2007年。 https://doi.org/10.1155/2007/46919
化学镀钴合金纳米线在氧化铝模板的制备
学术编辑器:织里小
收到了
2006年12月19日
修改后的
2007年5月12日
接受
2007年5月30日
发表
2007年7月3日
文摘
一种纳米线的新方法制造基于化学沉积过程描述。方法是小说相比,目前的化学过程用于制造纳米线,因为它涉及到越来越多的纳米线从下到上。纳米线的长度控制在只会通过调整沉积时间。纳米线是捏造一个氧化铝模板的纳米孔内。它是通过涂层的一侧模板由一层薄薄的为了激活化学镀钯沉积在纳米孔自下而上。然而,化学沉积过程之前,模板是使用一个合适的润湿剂,以促进电镀液的渗透毛孔。化学沉积过程,结合斜金属蒸发过程在一个prestructured硅片使用为了制造长纳米线沿着凹槽内的晶片的一边。
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