研究文章
理论研究的原子和离子插入Titanosilsequioxane (Ti-POSS)相比,改性
表3
一些几何参数(度)的D4脸的地方插入发生在过渡结构连接X (Ti-T8)和X@ (Ti-T8);X =他,Ne Ar Na+K+,Cl−在B3LYP / 6 - 311 + G (d)水平。
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| X |
信谊 |
(X-Ti) |
(x o) |
(Ti-O) |
< TiOTi |
< OTiO |
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| 纯 |
D4 h |
2.468 |
2.114 |
1.811 |
149.1 |
109.1 |
| 他 |
|
2.503 |
2.160 |
1.833 |
148.4 |
112.7 |
| 不 |
|
2.510 |
2.267 |
1.860 |
143.5 |
119.0 |
| 基于“增大化现实”技术 |
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2.553 |
2.431 |
1.924 |
138.7 |
126.5 |
| Na+ |
|
2.629 |
2.107 |
1.889 |
159.6 |
103.5 |
| K+ |
|
2.676 |
2.299 |
1.951 |
150.7 |
112.7 |
| Cl− |
|
2.440 |
2.507 |
1.906 |
129.5 |
136.7 |
|
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