文摘

反应脉冲激光烧蚀是一个非常有趣的方法沉积薄膜的材料和化合物如氧化物、氮化物、半导体、超导体。这项技术依赖光切除的纯元素,或材料的混合物,同时接触反应的气氛。之间的反应的氧化物激光蒸发金属和氧导致中间复合物的形成和最终氧化物薄膜。羽的反应已经研究了我们组在其他氧化物和氮化物作品和确定飞行时间质谱测量[1]。等半导体氧化物薄膜 在 2 O 3 , SnO 2 ,这两个化合物的多层膜已经被反应脉冲激光烧蚀沉积,目的是评估此类电影的行为变量卤素灯照明。沉积的薄膜进行了倍频Nd-YAG激光波长(= 532海里)在硅(100)基板。之间的比较,氧化铟、锡氧化物、铟和锡氧化物多层膜,已执行。物理参数的影响,如沉积衬底温度和氧气压力室,被调查。沉积薄膜电阻测量的特征。