TY -的A2 Altfeder Igor盟——Winnicki m . AU - Baszczuk a . AU - Rutkowska-Gorczyca m . AU - Jasiorski m . AU - Małachowska a . AU - Posadowski w . AU - Znamirowski z . AU - Ambroziak, a . PY - 2017 DA - 2017/01/09 TI -显微镜检查冷喷涂金属陶瓷Sn +₂O₃涂层材料溅射靶SP - 4058636六世- 2017 AB -低压冷喷涂是一种新开发的技术高的应用潜力。本研究的目的是调查的潜在应用这种技术生产的新型透明导电氧化物薄膜的目标。冷喷涂技术允许生产目标直接在垫板上;因此该溅射靶的Sn +₂O₃涂料喷涂在铜衬底。原料粉末的微观结构和属性准备用三种不同方法以及沉积的低压冷喷涂涂层进行了评估,比较,分析。生产金属陶瓷Sn +₂O₃目标是在第一个磁控溅射过程存款初步,薄,透明导电氧化物薄膜在玻璃基板上。初步获得电影的电阻率测量,并允许相信制造的TCO(透明导电氧化物)电影使用目标由冷喷涂是可能的在未来,优化后的沉积条件。SN - 0161 - 0457 UR - https://doi.org/10.1155/2017/4058636 - 10.1155 / 2017/4058636摩根富林明扫描PB - Hindawi KW - ER