纳米技术杂志/2011年/文章/图4.

研究文章

绝缘体聚合物薄膜厚度对存储器行为的影响:聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的情况

图4.

I-V. AL / PS / AL器件的响应。PS用Cb溶解,两种不同的PS厚度:(a)11nm和(b)18nm。注意,结果基本上与类似厚度范围内的PMMA器件类似。
702464.fig.004a.
(一种)
702464.fig.004b.
(b)

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