TY -的A2 Khizroev Sakhrat AU -昂,k . o . AU - Shankaran, c . AU - Sbiaa r . AU - Tan, e . l . AU -黄,s . k . AU - Piramanayagam s . n . PY - 2008 DA - 2008/06/08 TI -实现高纵横比的轨道长度宽度在模具离散跟踪记录媒体SP - 765398六世- 2008 AB -离散跟踪媒体(DTM)捏造nanoimprint光刻(NIL)被认为是一个潜在的技术为未来的硬盘驱动器(HDD)。大师制造的模具为NIL,模式抵制跟踪一个狭窄的分布宽度是关键的第一步。本文报告所涉及的挑战高纵横比的制造离散跟踪在有机玻璃(PMMA)抵制通过电子束光刻技术。观察到制造参数申请成功模式的离散跟踪纳米级长度没有直接适用于离散跟踪在微米尺度的模式。因此厚层抵抗涂料等不同的方法,引入接触后的烘干过程,使用了不同的曝光参数以达到均匀的微米尺度急剧离散跟踪长度的抗拒。最优参数被用来模式20 μ 米长跟踪与70纳米磁道间距的抗拒。SN - 1687 - 9503 UR - https://doi.org/10.1155/2008/765398 - 10.1155 / 2008/765398摩根富林明在纳米技术方面的研究快报PB - Hindawi出版公司KW - ER