TY -的A2 Kolmakov安德烈AU -克里希纳,k .哈里AU -侯赛因,o . m . Guillen AU - c . PY - 2008 DA - 2008/12/04 TI -照片和电致变色的活化反应蒸发的属性薄膜生长在柔性基板SP - 217510六世- 2008 AB -三氧化钼( MoO 3 )薄膜生长到ITO-coated柔性聚酰亚胺薄膜基板使用等离子体辅助活化反应蒸发技术。这部电影口供进行恒定发光8 W和电力和氧气分压 1 × 10 − 3 分别托。衬底温度的影响的微观结构和光学特性进行了研究。的 MoO 3 薄膜制备的衬底温度523 K被发现是由均匀分布的纳米颗粒的斜方晶系的结构 α - - - - - - MoO 3 。这些纳米晶体 MoO 3 薄膜表现出更高的光学透过率约80%的可见区域的光学带隙计算3.29 eV。12.5 mC /插入 厘米 2 ,40%的电影表现出光学调制在可见区域着色22的效率 厘米 2 / C的波长550 nm。的 MoO 3 薄膜沉积在523 K更好的光致变色性质和所表现的颜色中心浓度最高的辐照时间30分钟在100 mW / 厘米 2 。SN - 1687 - 9503 UR - https://doi.org/10.1155/2008/217510 - 10.1155 / 2008/217510摩根富林明在纳米技术方面的研究快报PB - Hindawi出版公司KW - ER