TY -的A2 Joshi Rakesh k . AU -库马尔,Pushpendra AU -胡贝尔,帕特里克PY - 2007 DA - 2007/06/06 TI -蚀刻参数对孔隙尺寸和孔隙度的影响纳米多孔硅形成的电化学SP - 089718六世- 2007 AB - SN - 1687 2007/89718 / 10.1155 - 4110 UR - https://doi.org/10.1155/2007/89718——摩根富林明-纳米材料杂志PB Hindawi出版公司KW - ER