TY -的A2 Uslu Bengi盟——Zerbino j . o . AU - Sustersic m·g . AU - Falivene c . AU - Avaca n . AU -麦克斯,a . PY - 2011 DA - 2011/08/09 TI -聚吡咯膜的电镀铬和肿胀:电化学和Ellipsometric研究SP - 379253六世- 2011 AB -聚吡咯的增长(Ppy)在金电极层近中性pH值的解决方案是使用“原位”分析voltametric和Ellipsometric技术。得到不同的电影结构根据potentiodynamic计划和电解液的组成。更紧凑的dodecylsulphate (DS)掺杂Ppy层生长在1.2 V和流值比应用获得的更高的潜力。更紧凑的层对应的增长氧化Ppy / DS层显示低伪行为能力。浸渍后,掺杂Ppy / DS电影氯化钾solution-significant光学变化指数和厚度检测的函数应用的潜力。更高的电镀铬以及膜厚度减少cathodisation后实现。光学指数和Ppy层形成的厚度在不同应用潜力/时间计划估计。SN - 2090 - 3529你2011/379253 / 10.4061——https://doi.org/10.4061/2011/379253——摩根富林明电化学的国际杂志PB - SAGE-Hindawi访问研究KW - ER