ty -jour a2 -Xiao，Zeyun au -aarya，suveda au -kumar，Pawan au -Bhatia -Bhatia，Mamta au -Kumar -Kumar，Sanjeev au -Sharma，jyotsna au- siddhartha，siddhartha，射线在超高分子量聚乙烯（UHMWPE）SP -7013154 VL -2021 AB-在超高分子量聚乙烯（UHMWPE）膜中进行的修饰引起的诱导诱导的修饰。1.25 MeV CO在室温下在真空中辐照胶片GydF4y2Ba^60GydF4y2Ba剂量范围为0至300 kGG的来源。分别通过UV-Visible，FTIR，XRD和SEM研究了辐照和未辐照的UHMWPE膜的光学，化学，结构和表面形态学特性。乐队差距GydF4y2Ba eGydF4y2Ba GGydF4y2Ba 随着辐射剂量的增加和颜色效应的减少，在较高剂量下已看到。FTIR光谱显示出透射强度的振荡行为，而不会影响其峰位置。可以清楚地看到小型吸收峰的数量，这可能是由于聚合物链的交联。在X射线衍射模式中未发现晶体峰的显着变化，表明聚合物的结构稳定性。聚合物样品的平滑形态的形态更改更粗糙的一个聚合物样品，显示了聚合物材料表面的微型体形成，剂量从0 kgy增加到300 kgy。SN -0730-6679 UR -https：//doi.org/10.1155/2021/7013154 do -10.1155/2021/7013154 JF-聚合物技术的进步PB-印度王-Hindawi kw -er -er-- er- er-GydF4y2Ba