ty -jour a2 -huang，yu -pei au -yang，ru -yuan au -chu -chu，cheng -jye au -peng，yu -ming au -chueng -chueng，hui -ju py -2012 da -2012 da -2012/09/16 ti-16 ti--16 ti-有机化合物对由浸入涂层方法SP-741561 VL制备的ITO薄膜微结构，光学和电气性能的影响-2012 AB-通过sol-gel-gel浸入涂层技术制备了氧化二掺杂的氧化物（ITO）薄膜使用低成本的金属盐和有机溶剂。在不退火的情况下处理涂层膜，或在400°C和600°C下退火3％h₂/97％n₂混合气氛。详细研究了制备的ITO膜的微结构，光学和电气性能。可见范围内的最大透射率（380–780 nm）为85.6％，最佳电阻率为 5 × 10 - 2 ω -cm在3％h以600°C退火时₂/97％n₂混合气氛。发现制备的ITO膜的光学和电性能与微结构变化密切相关。当制备的ITO膜在600°C的3％h中退火时，制备的ITO薄膜不能完全去除，制成的ITO薄膜也不致密₂/97％n₂混合气氛，导致电导率不佳。SN -1687-8434 UR -https：//doi.org/10.1155/2012/741561 do -10.1155/2012/202012/741561 JF-材料科学与工程PB的进步 - Hindawi Publishing Corporation Corporation Corporation Corporation Corporation kw -er -er- er- ER-