ty -jour a2 -guptasarma，prasenjit au -hendaoui，ali py -2021 da -2021/09/06 ti-底物温度 - 温度 - 依赖性结构，光学和热色素的电气性能₂（M）通过平滑石英底物上的一步脉冲激光沉积工艺生长的纳米结构膜SP -7700676 VL -2021 AB-热颜色M相M -phase dioxide vo₂（M）具有不同形态的膜已使用低沉积速率脉冲激光沉积直接在平滑的融合石英底物上生长，而无需进行后处理。当底物温度在450°C – 750°C的范围内升高时，vo的质地更好（011）₂（M）观察到膜以及增强其结晶度。形态从小颗粒和密集的vo演变而来₂（M）在450°C下的晶粒在750°C下以较小的微型/纳米线的晶粒。讨论了结晶度/形态演化背后的机制，并与温度对Adatoms扩散以及V的影响相关。⁵⁺价表示VO中的内容₂（m）电影。电阻率测量作为温度的函数表明，vo的绝缘体到金属过渡特征₂（M）膜（即过渡温度（ t _IMT），电阻率变化（δ r），滞后宽度（δ H）和过渡清晰度（δ t））强烈依赖于加工温度。就光学性质而言，发现在高温下达到的膜的开放式结构（即多孔）结构会改善其发光透射率。同时，膜结晶度的增强与温度相结合，从而提高了IR调制能力。目前的贡献提供了控制VO形态的一步过程₂（M）在光滑的石英基板上生长的膜，用于应用程序，记忆设备和智能窗口。SN -1687-8108 UR -https：//doi.org/10.1155/2021/7700676 DO -10.1155/2021/7700676 JF-凝结物理物理PB -Hindawi KW -er -er- ER-