TY - Jour A2 - Chen，Jingsheng Au - Liu，文峰奥 - 张，Mingang Au - Zhang，Kewei Au - Chai，Yuesheng PY - 2017 DA - 2017/01/18 Ti - NdFeB薄膜通过ND表面的微观结构和磁性性能通过在Si（100）基材上的磁控溅射沉积扩散过程SP-2017-2017 AB-Ta / Nd / NdFeB / Nd / Ta膜，随后在真空中以923k退火30分钟。发现TA / Nd / NdFeB / Nd / Ta膜的微观结构和磁性强烈地取决于NdFeB层厚度。随着NDFEB层厚度的增加，晶粒尺寸和应变都首先减少然后增加。当NDFEB层厚度为750nm时，应变达到最小值。同时，平面内和垂直的凝固性首先大幅增加，然后随着NDFEB层厚度的增加而缓慢降低。在NdFeB层厚度为750nm的NdFeB层厚度下，分别可以获得最高的面内和垂直矫顽力，分别为21.2 koe和19.5只koe。另外，在Ta / Nd / NdFeB（750nm）/ Nd / Ta膜中也可以实现0.87的高剩磁比（剩余磁化/饱和磁化强度）。SN - 1687-8108 UR - HTTPS://Doi.org/10.1155/2017/4296243 Do - 10.1155/2017/4296243 JF - 炼细物理PB - Hindawi KW - ER -