为了联系(微观)现象,包括电荷载体的运动和捕获和再发射的陷阱(宏观)电流的终端设备,我们可以使用Ramo-Shockley定理
74年,
75年)(然后广义Pellegrini动电学定理(
71年,
76年,
77年])。我们假设散射现象发生在时间尺度速度远远超过认为捕获/ detrapping事件,以这样一种方式,能够定义一个漂流。是由当前的终端
(2)
我
=
∫
一个
问
−
v
→
n
n
x
,
y
+
v
→
p
p
x
,
y
⋅
F
→
x
,
y
d
x
d
y
=
∫
一个
问
μ
n
n
x
,
y
+
μ
p
p
x
,
y
E
→
x
,
y
⋅
F
→
x
,
y
d
x
d
y
,在哪里
问是元电荷的模量;
v
→
n和
v
→
p分别是电子和空穴的漂移速度;
F
→
x
,
y是将产生的电场和坐标点吗
x
,
y由一个单位的潜在应用于电极,我们要计算当前(而另一电极接地,在缺乏移动费用)(
74年];
E
→
x
,
y电场装置中;
μ
n(
μ
p),
n(
p)是电子的机动性和表面密度(孔);和
一个设备的面积,等于产品的宽度
W和长度
l。自
F
→
x
,
y单位电场应用潜力,因此电场比应用潜力,它的尺寸长度的倒数。实际功能的依赖关系
F
→
x
,
y是受到联系人的详细信息和长宽比的装置。的组件
F
→
x
,
y沿着每个电荷(因此的漂移速度
E
→
x
,
y)代表承运人的重量每一个点的运动设备导致的总电流,因此被这里类似于灵敏度系数引入et al。
78年- - - - - -
80年]。因为本研究的目的的相对重量来自不同地区的设备并不重要,我们将假设一个常数
F
→
x
,
y(等于
1
/
l和并行
E
→
x
,
y),即。,a uniform sensitivity coefficient.
在这种近似,联系人的瞬时电流是由(
72年]
(3)
我
=
1
l
∫
一个
问
µ
n
n
+
µ
p
p
E
d
x
d
y
。
对于三维设备,这个积分必须替换为一个积分除以体积
V,
n和
p成为体积密度(而不是表面密度)。平均电流可以写成
(4)
我
=
问
µ
n
n
+
µ
p
p
E
W
。
如果像通常的情况(
71年),捕获和detrapping事件的影响在载体密度是迄今为止普遍对机动性和电场,我们可以表达当前由于运营商被困和detrapped波动
(5)
Δ
我
=
1
l
∫
一个
问
µ
n
Δ
n
+
µ
p
Δ
p
E
d
x
d
y
,在哪里
Δ
n和
Δ
p分别是电子和空穴浓度的波动。因此,电流波动的平均电流的比值等于
(6)
Δ
我
我
=
1
一个
∫
一个
μ
n
Δ
n
+
μ
p
Δ
p
E
d
x
d
y
μ
n
n
+
μ
p
p
E
≃
μ
n
∫
一个
Δ
n
d
x
d
y
+
μ
p
∫
一个
Δ
p
d
x
d
y
一个
μ
n
n
+
μ
p
p
=
μ
n
Δ
NgydF4y2Ba
+
μ
p
Δ
P
μ
n
NgydF4y2Ba
+
μ
p
P
,电子和空穴的总数在该地区吗
一个被定义为
NgydF4y2Ba
=
∫
一个
n
d
x
d
y和
P
=
∫
一个
p
d
x
d
y分别,而变化的效应trapping-detrapping现象已经表示
Δ
NgydF4y2Ba和
Δ
P。
第一个关系方程(
7)可以获得差异化的关系
P
NgydF4y2Ba
=
c(即。,the mass action law with both members multiplied by the square of the area
一个)。(同样,这可以获得注意的质量作用定律必须是有效的之前和之后都检查捕获事件。因此,这两个
Δ
P
+
P
Δ
NgydF4y2Ba
+
NgydF4y2Ba
=
c和
P
NgydF4y2Ba
=
c必须得到满足;减去两个方程,忽略二阶项
Δ
P
Δ
NgydF4y2Ba关于其他的,第一个关系方程(
7)。)的数量
c是一个常数通常取决于半导体的类型和温度,因此,它不会改变由于捕获事件。即使在石墨烯中,
c还取决于费米能级的位置(
81年),我们可以假设其变异由于捕获事件可以忽略不计。
用这些表达式为方程(
6),我们得到
(9)
Δ
我
我
=
μ
n
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ
+
μ
p
Δ
P
/
Δ
χ
一个
μ
n
n
+
μ
p
p
Δ
χ
=
1
一个
μ
n
n
+
μ
p
p
μ
p
P
−
μ
n
NgydF4y2Ba
P
+
NgydF4y2Ba
Δ
χ
。
因此,对于一个陷阱,我们有(
年代
我是闪烁噪声功率谱密度):
(10)
年代
我
我
2
=
μ
n
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ
+
μ
p
Δ
P
/
Δ
χ
一个
μ
n
n
+
μ
p
p
2
年代
χ
=
1
一个
μ
n
n
+
μ
p
p
μ
p
P
−
μ
n
NgydF4y2Ba
P
+
NgydF4y2Ba
2
年代
χ
,忽视了平均值的贡献,
年代
χ有一个洛伦兹对频率的依赖,典型的弛豫时间(自
Δ
χ是一个随机电报信号)[
82年]。
如果我们假设许多陷阱出现在设备是相互独立的,总体噪声频谱可以获得总结他们的光谱。的组合陷阱与正确的分配时间常数的影响导致然后
1
/
f噪声(
83年,
84年]:
(11)
年代
我
我
2
=
η
一个
μ
n
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ
+
μ
p
Δ
P
/
Δ
χ
μ
n
n
+
μ
p
p
2
1
f
γ
=
η
一个
1
μ
n
n
+
μ
p
p
μ
p
P
−
μ
n
NgydF4y2Ba
P
+
NgydF4y2Ba
2
1
f
γ
,与
η作为一个系数取决于浓度、分布、陷阱和属性,
γ是一个数字接近1。
我们将报告闪烁噪声功率谱密度的函数
n
−
p(即。,the charge density divided by
−
问),这在实际实验的数量可以通过调优的偏置电压调整门电容耦合到设备。
从方程(
8),我们可以观察到,如果电子浓度远远大于孔,即。,当
NgydF4y2Ba
≫
P,我们有
Δ
NgydF4y2Ba
≈
−
Δ
χ而
Δ
P
≈
0,也就是说,the variation in the trap charge is completely screened by electrons. In a similar way, when the hole concentration strongly dominates (i.e.,
P
≫
NgydF4y2Ba),
Δ
P
≈
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
≈
0,这意味着陷阱电荷变化是完全接受的洞。在中间的情况下,陷阱电荷的变化是由电子和空穴浓度的变化。特别是,在中性点(当
NgydF4y2Ba
=
P),陷阱电荷是筛查半孔数量的变化和对另一半的相反的电子数量的变化:
Δ
NgydF4y2Ba
=
−
Δ
χ
/
2和
Δ
P
=
Δ
χ
/
2。
从方程(
11),我们观察到闪烁噪声功率谱密度
年代
我消失的时候
μ
p
P
−
μ
n
NgydF4y2Ba
=
0。的行为
年代
我这一点如果附近是对称的吗
μ
n和
μ
p一致;否则,这种对称缺席。如果
μ
n
=
μ
p的点
年代
我的消失,
年代
我对称是中性点(在哪里
NgydF4y2Ba
−
P
=
0);这个条件获得的费米能级对应中间传导和价带之间的差距如果这样的乐队是对称的。
的数量
NgydF4y2Ba和
P靠,通过能量色散关系
E
F,也就是说,on the relative position of the Fermi energy with respect to the local value of the potential energy. However, the nonuniform distribution of charged dopants and impurities (including the randomly located charged traps themselves) introduces a potential disorder (i.e., a random spatial variation of the potential energy) which can substantially alter this result. In order to introduce the effect of this random spatial energy variation in our calculations, for each value
E
F我们平均结果的费米能级能量的高斯分布
E
F:
(12)
年代
我
我
2
=
η
一个
f
γ
∫
−
∞
+
∞
μ
n
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ
E
F
+
ε
+
μ
p
Δ
P
/
Δ
χ
E
F
+
ε
μ
n
n
E
F
+
ε
+
μ
p
p
E
F
+
ε
2
P
ε
d
ε
=
η
一个
f
γ
∫
−
∞
+
∞
1
μ
n
n
E
F
+
ε
+
μ
p
p
E
F
+
ε
μ
p
P
E
F
+
ε
−
μ
n
NgydF4y2Ba
E
F
+
ε
P
E
F
+
ε
+
NgydF4y2Ba
E
F
+
ε
2
P
ε
d
ε
,在哪里
(13)
P
ε
=
1
2
π
σ
2
经验值
−
ε
2
2
σ
2代表了一种规范化的高斯分布与零平均和标准偏差
σ。
标准偏差
σ高斯是一个估计的影响潜在的配置文件,因此相对位置
E
F的费米能级的势能,代表的随机带电杂质来源的潜在障碍。因此,的价值
σ并不仅仅取决于“强度”的障碍来源也静电筛选效率的材料,可以通过导数估计
∂
n
−
p
/
∂
E
F(或量子电容,它正比于它(
45])。如果这个导数较大,同一带电杂质诱导一个较小的变化
E
F(因此一个更小的
σ),因为这个小的变化
E
F足以屏幕杂质的静电效应相反的移动电荷密度的变化
−
问
n
−
p。
包括潜在的障碍时,我们将报告闪烁噪声功率谱密度的函数
n
−
p,也就是说,
n
−
p平均在相同能量的高斯分布:
(14)
n
−
p
=
∫
−
∞
+
∞
n
E
F
+
ε
−
p
E
F
+
ε
P
ε
d
ε
。
平均的潜在障碍(见方程(
12)降低了噪声频谱上的电荷密度的依赖,具有平滑作用从而增加障碍的力量。
3所示。石墨烯
首先,让我们分析单层和双层石墨烯(伯纳尔叠加)。在这个材料,电子和孔带近似对称的
μ
n
=
μ
p。因此,方程(
6)成为
(15)
Δ
我
我
=
Δ
NgydF4y2Ba
+
Δ
P
NgydF4y2Ba
+
P
。
可以执行类似的简化方程(
9)- (
12);例如,方程(
11)成为
(16)
年代
我
我
2
=
η
一个
1
n
+
p
Δ
NgydF4y2Ba
+
Δ
P
Δ
χ
2
1
f
γ
=
η
一个
1
n
+
p
P
−
NgydF4y2Ba
P
+
NgydF4y2Ba
2
1
f
γ
。
对于石墨烯,我们计算出载体浓度
n和
p通过集成的产品占领的态密度和功能在整个能量范围:
(17)
n
=
∫
0
∞
DOS
E
f
E
−
E
F
d
E
,
p
=
∫
−
∞
0
DOS
E
1
−
f
E
−
E
F
d
E
,DOS是态密度,在哪里
f因此,电子的费米狄拉克占领函数(
1
−
f孔的占领函数)。DOS反过来取决于单层石墨烯或双层石墨烯的色散关系,即。
14,
18,
53,
54]:
(18)
E
米
κ
=
±
γ
κ
,
E
b
κ
=
±
γ
1
2
2
+
Δ
2
4
+
γ
2
κ
2
−
γ
1
4
4
+
γ
1
2
+
Δ
2
γ
2
κ
2
1
/
2
,在哪里
κ之间的区别是波矢和狄拉克点,
γ
=
ℏ
v
F(与
ℏ普朗克常数,
v
F
=
8.73
×
1
0
5
米
/
年代石墨烯的费米速度),
γ
1
=
0.39
电动汽车石墨烯层间耦合,
Δ(这个词可能的带隙负责开放)的区别是现场能量在两层,大约与载体的浓度成正比
n
−
p(更详细,
Δ
≈
1。4
×
1
0
−
18
电动汽车
米
2
×
n
−
p)。
的行为
Δ
P
/
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ的函数
n
−
p单层石墨烯在300 K。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p单层石墨烯在300 K,在缺乏潜在的障碍。
的行为
Δ
P
/
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ的函数
n
−
p双层石墨烯在300 K。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p为双层石墨烯在300 K,在缺乏潜在的障碍。
在数据
2和
4我们报告的数量
Δ
P
/
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ(评估从方程(
8))的函数
n
−
p(分别为单层和双层石墨烯)。在一般情况下,电荷陷阱的变化主要是接受洞洞的主导运营商,虽然主要是接受电子电子的主导运营商。反而是对称接受电子和空穴在中性点。
在数据
3和
5我们报告的数量
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η(评估从方程(
11))的函数
n
−
p(分别为单层和双层石墨烯)。因为在石墨烯
μ
n
=
μ
p,闪烁噪声功率谱密度的行为是完全对称的中立观点。特别是,负责中立点(狄拉克点),在那里
Δ
NgydF4y2Ba
=
−
Δ
χ
/
2和
Δ
P
=
Δ
χ
/
2,电流的波动(因此噪声功率谱密度)完全消失(见方程(
16))。比较数据
3和
5,我们注意到周围的倾斜双层石墨烯的狄拉克点是更广泛的比单层石墨烯,由于他们不同的色散关系。
在数据
6和
7,我们将展示类似的结果平均单层的光谱(图
6(图)和双层
7)石墨烯在300 K /潜在的障碍。特别是,我们报告的价值
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η(即。,the integral appearing in Equation (
12))的函数
n
−
p(即。,the charge density divided by the electron charge, averaged according to Equation (
14))。对单层和双层石墨烯,我们显示结果为以下四个不同的值
σ:10、20、30和40兆电子伏。在这两种情况下,我们观察到光谱的最小电荷中性点往往消失的力量越来越混乱:因此,闪烁噪声功率谱密度的演化的行为从一个“M”形“Λ”形。然而,正如我们可以推断相应的值
∂
n
−
p
/
∂
E
F(负责中性点=
7
×
1
0
12
c
米
−
2
e
V
−
1在单层石墨烯
44
×
1
0
12
厘米
−
2
电动汽车
−
1在双层石墨烯),筛选潜在的波动是六倍的双层石墨烯单层石墨烯。这是一个后果不同的两种材料的色散关系,与双层石墨烯的特点是奉承狄拉克点附近的乐队(
50]。因此,对于类似的杂质分布的值
σ应该考虑单层石墨烯,大约6倍比考虑双层石墨烯。结果,对现实的价值观紊乱,单层石墨烯通常不会表现出最低的闪烁噪声功率谱密度在中性点。相反,在充分清洁的双层石墨烯样品,一个“M”形的行为经常被观察到,在狄拉克点最低。类似的“M”形的行为也被观察到在暂停了单层石墨烯,而潜在的障碍远弱于衬底的单层石墨烯。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p单层石墨烯在300 K。的平均执行四个潜在的障碍,标准差的高斯分布
σ
=
10分别为20、30和40兆电子伏。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p双层石墨烯在300 K。的平均执行四个潜在的障碍,标准差的高斯分布
σ
=
10分别为20、30和40兆电子伏。
4所示。普通的半导体
现在让我们继续的情况下普通的半导体,如硅和砷化镓,闪烁噪声功率谱密度的最小电荷中性点从未实验观察。
也在这种情况下,我们可以采用部分中描述的数值程序
2替换(在三维通道)地区卷。为了简化计算,达到一般的结果,我们忽视的细节材料的能带结构,假设一个恒定的有效质量,我们使用半古典的表达式为载体浓度(
85年,
86年]:
(19)
n
=
NgydF4y2Ba
C
经验值
−
E
C
−
E
F
k
B
T
,
p
=
NgydF4y2Ba
V
经验值
−
E
F
−
E
V
k
B
T
,在哪里
E
C是最低导带,
E
V价带最大,
k
B玻耳兹曼常数,
T是绝对温度。
特别是,我们执行我们的计算使用的是硅和砷化镓材料参数。
对于硅,我们考虑以下参数:
NgydF4y2Ba
C
=
2.82
×
1
0
19
厘米
−
3,
NgydF4y2Ba
V
=
1.04
×
1
0
19
厘米
−
3,
E
G
=
1.12
电动汽车,
μ
p
=
450年
厘米
2
/
V
年代,
μ
n
=
1400年
厘米
2
/
V
年代。
相反,砷化镓,我们假设如下:
NgydF4y2Ba
C
=
4.7
×
1
0
17
厘米
−
3,
NgydF4y2Ba
V
=
7.0
×
1
0
18
厘米
−
3,
E
G
=
1.42
电动汽车,
μ
p
=
400年
厘米
2
/
V
年代,
μ
n
=
8500年
厘米
2
/
V
年代。
在数据
8和
9我们报告的结果硅平均在300 K没有潜在的障碍。更多的细节,在图
8,我们显示比例
Δ
P
/
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ(评估根据方程(
8))的函数
n
−
p,而在图
9我们报告的行为数量
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η(评估根据方程(
11))的函数
n
−
p。
的行为
Δ
P
/
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ的函数
n
−
p硅在300 K。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p硅在300 K,在缺乏潜在的障碍。
在数据
10和
11砷化镓,我们报告了类似的结果在平均300 K没有潜在的障碍。
的行为
Δ
P
/
Δ
χ和
Δ
NgydF4y2Ba
/
Δ
χ的函数
n
−
p砷化镓在300 K。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p在300 K,砷化镓,没有潜在的障碍。
从报告的参数,我们看到相反的石墨烯,这些半导体有不同的电子和空穴的机动性。这是明显的不对称的原因中观察到的结果,更大的噪声频谱的地区运输是由电子,即。,运营商与更高的流动性。我们还可以观察到不对称在砷化镓,的电子和空穴迁移率的区别比较大。由于流动性差,谱不消失在中性点(
n
−
p
=
0),但在
μ
p
P
−
μ
n
NgydF4y2Ba
=
0。此外,关于石墨烯(,没有障碍,这消失点大幅减少频谱对hole-dominated和electron-dominated传导区域),在这里,由于频谱不对称,最小值点突出的要少得多。的确,特别是在砷化镓的情况下,从hole-dominated地区几乎无法分辨,频谱已经很低。
因此,当潜在障碍的影响,介绍了通过在高斯平均能量分布标准差
σ根据方程(
12),光谱的局部最小值完全消失和频谱展览“Λ”形状,最大electron-dominated地区集中,流动性比较大。的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η(即。,the integral appearing in Equation (
12))的函数
n
−
p(由方程(
14在数据报告)
12和
13在300 K,硅和砷化镓,分别为四个不同的值
σ:10、20、30和40兆电子伏。行为描述观察到的半导体,但更明显的砷化镓,光谱中最小的已经很难识别没有障碍。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p硅在300 K。的平均执行四个潜在的障碍,标准差的高斯分布
σ
=
10分别为20、30和40兆电子伏。
的行为
年代
我
/
我
2
一个
f
γ
/
η的函数
n
−
p砷化镓在300 K。的平均执行四个潜在的障碍,标准差的高斯分布
σ
=
10分别为20、30和40兆电子伏。