1.介绍
硼烯作为硼低维结构的代表,是一种新型的二维材料。因此,其结构和性能受到了强烈的关注和广泛的研究。
对硼酚结构的理论研究可以追溯到1995年[
1 ].当时,Boustani提出了准平面硼团簇的存在,其形状有五边形或六边形。后来,一些研究者相继证明存在一层具有翘曲三角形晶格的硼单层,且该结构最稳定[
2 - - - - - -
7 ].唐、伊斯梅尔-贝吉[
8 ]提出了一种由多个三角形晶格和六方孔洞混合构成的平面结构单层硼。这个结构叫做
α 表borophene。其特点是所有硼原子都在同一平面上,其能量低于之前提出的最稳定的弯曲三角形晶格结构单层硼。
研究发现硼酚由于其丰富的结构而具有多样化的性质。Zhou et al. [
9 ]通过理论计算预测了具有狄拉克锥结构的硼酚。Mannix等人[
10 通过实验证明硼酚的结构具有各向异性和高电导率。Xu等[
11 ]研究了硼酚的场发射特性以及响应快、稳定性好的特点。Penev等人[
12 和赵等人[
13 ]分别从实验制备和理论计算证明硼酚可以成为超导体,并计算了超导转变温度。Mortazavi等人[
14 ]采用分子动力学方法研究了硼酚在锂存储中的性能。研究发现,与石墨烯相比,硼酚在锂离子电池领域具有更多优势。Zhang等[
15 ]提出了一种基于硼酚的红外等离子体传感器,可应用于下一代即时诊断设备。冯等人[
16 发现了在硼酚中存在具有量子效应的狄拉克费米子。
为了提高硼酚材料的性能,研究人员通常采用吸附掺杂的方法。Wang等[
17 ]研究了硼酚的储氢性能,发现钙改性硼酚的储氢效果可达12.68 wt%。乔杜里等人[
18 ]利用密度泛函理论研究了掺杂氢、锂、铍和碳的硼酚的电子和光学性质。研究发现,掺杂后的狄拉克点发生了分裂和移动,从而改变了光学性质。Ishaq等[
19 ]用第一性原理研究了超卤素掺杂硼酚在电子器件中的非线性光学性质。Chen等[
20. 利用密度泛函理论研究了激发P掺杂硼酚作为锂离子电池负极材料。Thanh等人[
21 ]研究了电荷掺杂对硼酚机械强度的影响。Tu等人[
22 ]研究了Li掺杂硼酚能显著改善SO的吸附性能和电子性能2 .Zhang等[
23 ]研究了三维过渡金属原子插入硼酚的电子和磁性能。
由于硼酚的独特性质和广泛应用,努力调节硼酚的储氢效应、锂存储效应、吸附性能、电子性能、磁性、光学性能仍处于起步阶段;对硼酚的性质调控进行进一步的研究仍是必要的。特别是在半导体光电子领域,还没有关于硼酚光电性质调制的相关研究。
本文采用第一性原理赝势平面波方法研究了掺杂对硼酚光电性质的影响。我们研究硼酚是
α -片硼烯具有最稳定的结构和半导体结构。所选择的掺杂元素为与硼(B)同属主族的铝(Al)和镓(Ga)。具体任务是分析硼酚掺杂前后的电子结构和光学性质。希望研究结果能为硼酚在半导体光电子领域的应用提供理论依据。
3.结果与讨论
3.1.几何结构
表格
1 列出了X掺杂杂质的结构参数和结合能
α 表borophene,
d
B0-B 表示相邻中心原子B的6个B-B键的平均长度0 当硼酚未掺杂时,
d
取向 为硼酚掺杂时相邻杂质原子X的6个X- b键长度的平均长度
E
b 是系统的结合能。
表1
的结构参数和结合能
α 表borophene (
X = Al, Ga)。
样本
一个 (nm)
b (nm)
d B0-B (nm)
d 取向 (nm)
E
b (eV)
Borophene
0.5060
0.5070
0.1693
- - - - - -
−5.267
铝掺杂borophene
0.5120
0.5128
- - - - - -
0.1880
−5.393
Ga掺杂borophene
0.5127
0.5134
- - - - - -
0.1896
−5.146
从表中可以看出
1 后,
c -轴是固定的,结构是优化的,误差的晶格常数
一个 和
b 在硼酚和[
24 ,不超过0.2%和0.4%。同时,平均长度
d
B0-B 为0.1693 nm,在0.167 nm范围内的误差在[
29 不超过1.4%。以上两点说明该计算模型是可靠的。
如图
1 显示
, 掺杂X杂质后,
α -片硼烯仍然具有二维平面结构,但掺杂后结构发生了畸变。这些变化可以直接从键长的变化中看出
d
取向 表中给出
1 .键长变化的原因是每个原子的共价半径不同。例如,B、Al和Ga的共价半径分别为0.084 nm、0.121 nm和0.122 nm。由于杂质原子X的共价半径大于B的共价半径,因此
d
取向 比的大
d
B0-B .此外,由于Ga的共价半径大于Al, Ga掺杂引起的结构畸变比Al掺杂更严重。
根据表中列出的硼酚体系的结合能值
1 的价值
E
b Al和Ga掺杂后均为负值,与未掺杂体系的值相近。表明X掺杂硼酚体系结构稳定。
3.2.电子结构
数据
2 - - - - - -
4 显示硼酚掺杂前后的能带结构和态电子密度。
图2
硼烯的电子结构。
图3
铝掺杂硼酚的电子结构。
图4
镓掺杂硼酚的电子结构。
如图
2 显示
,
α -片硼烯是一种间接带隙半导体,带隙电子密度为1.396 eV。与计算值1.40 eV非常吻合[
24 ,说明本文的计算方法和精度是可靠的。因此,
α 扩展了硼酚在制备新型纳米光电子器件中的应用。
从图中可以看出
3. 和
4 Al和Ga掺杂后,价带顶部位置不变,导带底部位置略有上升,使得掺杂体系的禁带变宽,禁带值分别为1.437 eV和1.422 eV。已知B的价电子排布为2s2 2 p1 , Al是3s2 3 p1 而Ga是3d的10 4 s2 4 p1 .从态的电子密度可以看出,相对于每个原子的s态电子的贡献,最外层的p态电子的贡献更大。附近的费米能级,因为少量的铝3 p电子和Ga 4 p电子和大量的B 2 p能级电子轨道杂化,这使得带隙的变化和电子态密度的峰值下降后borophene兴奋剂。此外,由于Ga三维态电子的引入,Ga掺杂硼酚在−18 eV到−16 eV的深能级之间有5个新能级。
3.3.马利肯人口分析
B原子与杂质原子X相邻的Mulliken布居分析列于表中
2 .
表2
杂质原子周围原子的穆里肯布居分析。
样本
原子
年代
p
d
总计
收费(e)
Borophene
B B0
0.69 0.63
2.31 2.38
0 0
2.99 3.01
0.01 −0.01
铝掺杂borophene
B 艾尔
0.91 −0.02
2.53 0.18
0 0
3.44 0.16
−0.44 2.84
Ga掺杂borophene
B 遗传算法
0.85 0.35
2.45 0.53
0 9.97
3.30 10.86
−0.29 2.44
如表
2 显示
, B之间的电荷转移0 硼酚中B原子含量仅为0.01,说明B0 -B键主要是共价键,但也有少量的离子键组成。而当掺入杂质X时,X与B原子间的电荷转移明显增加,说明X-B键的共价强度减弱,离子性增强,化学键具有明显的方向性。X掺杂硼酚体系的化学键特征也可以从表中的居群分析中直接看出
3. .
表3
杂质原子周围能带的穆里肯布居分析。
样本
乐队
人口
Borophene
B0 - b
0.54
铝掺杂borophene
Al-B
0.08
Ga掺杂borophene
Ga-B
0.28
如表
3. 显示
, 故选B0 硼酚中的-B键是0.54。掺杂X杂质后,X- b键的居布率降低,分别达到0.08 (Al)和0.28 (Ga)。种群数的减少表明掺杂体系中化学键的共价键强度减弱,而离子键强度增加。以上Mulliken布居分析表明,杂质的引入可以使掺杂硼酚体系中原子间化学键的性质多样化。
3.4.光学性质
为了探讨掺杂对薄膜光学性能的影响
α 进一步计算了硼酚掺杂前后的复介电函数、反射率、折射率、吸收和损耗函数。
数字
5 显示了硼酚的复介电函数。从图中可以看出
5(一个) 硼酚的静态介电常数
ε 1 (0) = 2.60。铝掺杂后,
ε 1 (0)增加到3.21。Ga掺杂后,
ε 1 (0)增加到3.57。还可以看到,在未掺杂的情况下,
ε 1 (
ω )得到一个介电峰在
E = 1.95 eV,这是由图中b2态电子从−4.08 eV跃迁到−2.13 eV引起的
2 .当Al和Ga掺杂时,在
E = 1.28 eV和
E = 1.34 eV,成为第一主峰。这两个新的介电峰主要是由于b2态电子从−5.91 eV跃迁到−4.63 eV和从−5.99 eV跃迁到−4.65 eV,以及少量的Al 3p态电子和Ga 4p态电子。介电峰在
E = 1.91 eV显著降低,并回落至第二介电峰。这是因为少量的Al 3p态电子和Ga 4p态电子以及大量的b2态电子已经进行了轨道杂化;因此,波段之间的过渡减弱了。从图中可以看出
5 (b) 认为,在Al和Ga掺杂后,主峰
ε 2 (
ω )的复介电函数的虚部
E = 4.79 eV显著降低,在低能方向出现新的介电峰。静态介电常数的增加和新的介电峰的出现表明Al和Ga的掺杂可以增强硼酚的储能能力。上述结果表明,掺杂可以调节硼酚的介电性能。
图5
硼酚的复介电函数。(一)
ε 1 (
ω );(b)
ε 2 (
ω ).
(一)
(b)
数字
6 显示的光学性质
α -片硼酚在杂质X掺杂前后。如图
6 显示,该硼酚材料的反射率可达到50%以上,且静态折射率较高
n 0 = 1.61。硼酚在可见光中对波长为516 nm的绿光的吸收效果最好,对波长为274 nm的紫外光的吸收效果次之,基本不吸收红光和红外光。硼酚的损失函数的峰值是在一个很窄的区域附近
E = 3.64 eV,表明硼酚可作为一种光存储材料。
图6
硼酚的光学性质。(一)反射率。(b)的折射率。(c)的吸收。(d)损失函数。
(一)
(b)
(c)
(d)
Al和Ga掺杂后,硼酚的峰值反射率降低到45%以下。铝掺杂后
n 0 增加到1.79,Ga掺杂后,
n 0 增加到1.89。对绿光的吸收效果明显减弱,对紫外光的吸收效果基本不变,但掺杂后填补了红光和红外吸收的空白。因此,掺杂硼酚体系可用于开发红外探测器。在附近
E = 3.64 eV时,Al掺杂后损耗函数峰值减小,Ga掺杂后损耗函数峰值增大,但掺硼酚体系的光损耗限制在一个较窄的能量范围内。结果表明,掺硼酚材料也可作为一种光存储材料。
4.结论
我们已经研究了杂质(
X = Al, Ga)掺杂对光电性能的影响
α 利用第一性原理赝势平面波方法,研究了一种新型的含硼吩类化合物。结果表明:
(1)
掺杂后硼酚的结构发生了畸变,但掺杂体系的结构是稳定的。
(2)
的
α -片硼烯是一种间接带隙半导体,具有1.396 eV。艾尔和Ga掺杂后,价带顶的位置不变,和导带底部的位置略有上升,这使得掺杂体系的带隙宽,和带隙值1.437 eV和1.422 eV,分别。
(3)
在费米能级附近,少量的Al 3p态电子、Ga 4p态电子和大量的b2态电子发生轨道杂化,硼酚的能带隙发生变化,掺杂后的态电子密度峰值降低。
(4)
Mulliken群体分析表明,B0 -B键主要是共价键,但也有少量离子键。而当掺杂杂质X时,X和B原子间的电荷转移显著增加,相应X-B键的布居数从0.54降低到0.08 (Al)、0.28 (Ga),表明掺杂体系中化学键的共价键强度减弱。化学键有明显的方向性。
(5)
光学性质的计算表明:静态介电常数从2.60 (Al)和3.57 (Ga)增加到3.21 (Al)和3.57 (Ga),并出现新的介电峰,说明Al和Ga的掺杂增强了硼酚储存电磁能量的能力。该材料的反射率可达50%以上,并具有静态折射率
n 0 = 1.61。掺杂后,反射率峰值降至45%,静态折射率下降
n 0 从1.61 (Al)增加到1.79 (Ga)和1.89 (Ga)。同时填补了掺杂硼酚体系对红光和红外吸收的空白。研究结果为硼烯材料在红外探测器件领域的发展提供了依据。掺硼酚体系的光损耗限制在3.64 eV左右的狭窄能量范围内,说明Al和Ga的引入并不影响硼酚材料作为光存储材料的使用。
上述结果表明,掺杂可以调节薄膜的光电特性
α 表borophene材料。